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- 半导体制造：用于硅片清洗、光刻、蚀刻等关键工序，防止污染物沉积，保障集成电路的高精度和长寿命
- 集成电路生产：用于清洗硅片，确保电路的精确性和可靠性，还用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、设备冷却水和电镀液等。
- 平板显示器制造：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管显示器（OLED）的制造过程中，用于清洁和蚀刻环节，确保显示器的色彩鲜艳、画面清晰
- 太阳能电池制造：用于太阳能电池片的高洁净度清洗，提升光电转化效率5。
- 其他领域：还可用于超纯材料和超纯化学试剂的勾兑、实验室和中试车间的实验与生产、汽车和家电表面抛光处理、光电子产品的生产等
- 设备特点
- 高纯度水质：能够制备出满足电子行业严格要求的超纯水，几乎不含任何杂质。
- 自动化程度高：配备 PLC 可编程控制器，实现从进水、预处理、制水到出水的全自动运行，无需人工值守，减少人为操作误差，提高生产效率。
- 运行稳定可靠：关键部件采用优质材料，具有良好的稳定性和可靠性，可长时间稳定运行，确保超纯水的持续供应。
- 节能环保：采用高效的过滤和纯化技术，水利用率高，能耗低，同时减少废水排放，符合环保要求
