光的干涉在薄膜光学中应用广泛. 光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜. 光学镀膜是光学器件上的单个或多个材料沉积薄层, 实现多样功能, 典型应用例如在镜片镀膜中, 为了消除光学零件表面的反射损失, 提高成像质量, 涂镀一层或多层透明介质膜, 称为增透膜或减反射膜. 薄膜沉积在新型特殊性能材料的开发和研究中起到重要作用.
光学镀膜是如何工作的？
待镀膜工件装入镀膜室, 其内将执行喷溅工艺流程. 通常是两个离子源, 一个溅射沉积源, 一个预清洁和辅助沉积源. 离子源在真空环境中产生离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 从而将薄膜加镀到工件上. 此处所需的典型真空压力一般小于 1x10-4 hPa. 清洁无碳真空环境和高稳定的离子束流是实现精确的高质量的薄膜关键.
光学镀膜中离子源作用
通过使用上海伯东美国 KRi 离子源可实现基板清洁和加速镀膜材料的溅射速度, 并且离子源在材料沉积过程中可帮助沉积并使沉积后的薄膜更为致密, 膜基附着力更好, 膜层不易脱落. 其中射频离子源提供高能量, 低浓度的离子束, 离子源单次工艺时间更长, 适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜工艺. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.
上海伯东 KRi 射频离子源 RFICP 参数:
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型号 |
RFICP 40 |
RFICP 100 |
RFICP 140 |
RFICP 220 |
RFICP 380 |
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Discharge 阳极 |
RF 射频 |
RF 射频 |
RF 射频 |
RF 射频 |
RF 射频 |
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离子束流 |
>100 mA |
>350 mA |
>600 mA |
>800 mA |
>1500 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
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栅极直径 |
4 cm Φ |
10 cm Φ |
14 cm Φ |
22 cm Φ |
38 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
3-10 sccm |
5-30 sccm |
5-30 sccm |
10-40 sccm |
15-50 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
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长度 |
12.7 cm |
23.5 cm |
24.6 cm |
30 cm |
39 cm |
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直径 |
13.5 cm |
19.1 cm |
24.6 cm |
41 cm |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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光学镀膜中真空系统
不论是蒸发镀膜还是溅射镀膜, 上海伯东提供满足各种镀膜工艺的德国 Pfeiffer 真空泵, 比如分子泵, 旋片泵, 螺杆泵及整套泵站, 同时提供用于真空测量的真空规和用于镀膜设备腔体密封性泄露检测的氦质谱检漏仪, 以保证镀膜工艺稳定性.
推荐大抽速分子泵参数
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型号 |
HiPace 1200 |
HiPace 1500 |
HiPace 1800 |
HiPace 2300 |
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进气口 |
DN 200 ISO-K |
DN 250 ISO-K |
DN 200 ISO-K |
DN 250 ISO-K |
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氮气抽速 l/s |
1250 |
1400 |
1450 |
1900 |
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最大极限真空度 hPa |
< 1X10-7 |
< 1X10-7 |
< 1X10-7 |
< 1X10-7 |
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电压 V AC |
100-120 |
100-120 |
100-120 |
100-120 |
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氮气压缩比 |
> 1X108 |
> 1X108 |
> 1X108 |
> 1X108 |
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转速 RPM |
37800 |
37800 |
31500 |
31500 |
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最大预抽真空 hPa |
2 |
2 |
1.8 |
1.8 |
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