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KRI 离子源用于镀制1064nm窄带滤光片激光膜

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发布日期：2023-11-14 16:24
有效期至：长期有效
商机区域：全国
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详细说明

1064nm 窄带滤光片是在各类玻璃材质表面通过特殊的镀膜工艺而形成的光学元件, 可以从入射光中选取任意所需求的波长, 半峰值一般在 5nm~50nm之间, 具有波长定位准确、透过高、截止深、温漂小、耐用性好、光洁度好的特点, 是激光设备应用中常见的滤光片解决方案.

1064nm 窄带滤光片使用在各种特殊的场合和恶劣的气候环境, 要求滤光片在苛刻的使用条件下有良好的性能, 故膜层的牢固度和技术指标稳定性非常重要. 这些性能包括:大口径面积内膜层均匀性好、透射率要求高、膜层牢固度高、中心波长稳定性好(零漂移)等. 上海伯东某客户采用采用光学镀膜机加装美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380辅助沉积镀制 1064nm 窄带滤光片激光膜, 以达到客户对于高品质镀膜效果的需求.

KRI 离子源用于镀制1064nm窄带滤光片激光膜:

1. 应用方向: 离子清洗, 辅助沉积

2. 镀膜机型: 1米7 的大型蒸镀设备, 配置美国 KRi 射频离子源 RFICP 380

3. 测试环境: 80C / 80% 湿度, 85C / 95% 湿度, 连续 1,500 小时高温高湿严苛环境测试

4. 镀膜材料: Ti305+Si02、Ta205+Si02

5. 应用领域: 激光设备、生化仪、光学测量仪器、酶标仪、生物识别、红外医疗仪器、荧光分析仪、医疗检测设备等其他生物化学分析仪器

上海伯东美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380辅助沉积镀制1064nm窄带滤光片, 沉积过程稳定, 加以合理的膜系设计, 可以很好地镀制出透过率高、截止宽度宽、温度漂移小、膜层致密度高、使用寿命长的产品.

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频离子源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.

射频离子源 RFICP 系列技术参数:

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000 or RFN

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